纺织面料技术难点,纺织面料技术难点有哪些

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于纺织面料技术难点的问题，于是小编就整理了2个相关介绍纺织面料技术难点的解答，让我们一起看看吧。中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于纺织面料技术难点的问题，于是小编就整理了2个相关介绍纺织面料技术难点的解答，让我们一起看看吧。

1. 中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？
2. 什么样的羊毛衫不起球，穿着舒服，感觉平整？

中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？

光刻机又称掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是利用紫外线通过模板去除晶圆表面的保护膜的设备，目前最好的光刻机是荷兰ASML生产的EUV光刻机。

光刻机制造难度极高，基本代表人类科学技术、工业制造的最高成果。其中难度最大的是镜头和光源。

光刻机的镜头***用蔡司技术，蔡司是德国历史悠久的光学仪器厂商，其产品向来是“高贵”的代名词。同样的一个镜片，不同工人打磨，光洁度相差十倍。镜片材质均匀，更需要几十年甚至上百年的技术沉淀。光学镜片的进步是异常艰难的。

光刻机的光源使用波长极短的极紫外光，该技术是使用激光产生等离子源产生13nm的紫外波长。这种光源工作在真空环境下，产生紫外波长，然后由光学聚焦形成光束，光束经由用于扫描图形的反射掩膜版反射，由于极紫外光的固有特性，产生极紫外光的方式十分低效。能源转换效率只有 0.02% 左右。

还有光源曝光头、真空管路系统、七路系统、真空泵等等全都是当今世界上最精密的仪器，要把这些精密仪器组合在一起而且误差接近于0，其难度可想而知。

光刻机制作芯片的工作，比米粒上刻清明上河图还要难，而且还要在真空环境中，移动状态下。

最要命的是光刻机设备和零部件对我国是封锁的。也就是制作一台光刻机，要全世界高精端设备公司最好的产品组合在一起，如果一个国家要制造出全部零部件，目前看不可能。

感谢您的阅读！

（图片来源网络，侵删）

【中国芯片制造不可忽略的痛点，真的是光刻机吗？为何光刻机这么难制造】

芯片问题确实一直困扰着我们，这种困扰导致了我们目前在芯片中很多方面都会受到西方国家的一些钳制。而在这里面有一个非常重要的内容就是光刻机，在我看来，它是我国芯片制造中不可忽略的重点，也是我们可能影响最大的痛点。

为何我国光刻机的发展步伐如此之缓慢？并不是因为我们光刻机没有发展。我们知道目前我国的上海微电子，已经能够生产90纳米工艺的光刻机，当然和世界先进的荷兰的ASML的7nm EUV工艺光刻机还存在一定的距离。

当然我们国家在芯片制造中，因为中芯国际的存在缓解了我们这种无奈。我们要知道中芯国际目前最新的N＋1，N＋2等等技术，已经非常接近台积电7nm工艺。华为因为美国的压力，如果要给华为进行芯片代工，必须要获得美国的同意，因此华为未来可能会依靠的是中芯国际。

上海微电子实际上，宣布2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。如果多轮曝光，还可以达到14nm！这样的消息对我们来说确实是好消息，但是在这个消息的背后，我们也看到了荷兰ASML的进步，毕竟他们已经向着更深的层次的光刻机进行发展。

我国光刻机领域为何如此大的限制？最主要的因素在于：西方国家对于我国在技术方面的一些限制，特别是瓦纳森协议，这个协议其中有一个最重要的内容，就是光刻机技术向我们进行禁止输出，可以说这种限制，对我们来说确实产生了非常大的影响，以至于目前我们的光刻机技术，在发展中受到了很大的困扰。

我们如何实现光刻机的弯道超车？一方面我们要不断提升我国在光刻机技术领域的芯片技术发展；另外一个方面最重要的是，我们也需要走出一条和ASML光刻机不同的路，这才能真正的实现弯道超车。

这里是年燕将门，你的疑惑我来解答。

题主所提问题——中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？准确的说应该是高端光刻机为什么那么难。虽然前些日子有了上海微电子量产28nm芯片的消息，但比起ASML的5nm芯片技术来说我们依旧处于一个相对来说比较落后的局面。

那么，为什么高端光刻机这么难，我们14亿人民就造不出吗？
其实，光刻机可以说是世界科技工业科技的产物，ASML就是那个整合商。他所用的零件都是世界最顶级的，比如蔡司的镜头，美国的光电技术。更有说法之处，ASML的光刻机的一个零件需要打磨10年！由此可以看出，制造高端光刻机不是有钱就可以的。

那么有人会问，那我们国家自己做整合商不行吗？

答案是不行。为什么？

其实ASML之所以能够做整合商，首先是给他提供技术硬件支持的，很多都是它的股东，他们提供技术给ASML，以保证能在最快的时间拿到ASML的光刻机，比如台积电，三星，英特尔等。而这些外企会提供技术和零件给中国这些和他们没有利益关系的公司吗？显然是不会。所以你可以看到，我们的民族产业走上了自主研发的道路，即使动用了全国力量，也依旧只能做出落后几代的产品。

当然，ASML优先给股东供货，想中芯国际这种没有利益关系的供货总是排在最后面的。2018年向ASML订购的7nm光刻机至今没有交付，而台积电仅在2019年就交付了13台光刻机！所以在光刻机上我们是给限制的死死的，这是美国为何能自信制裁华为的原因。

你好，光刻机是芯片制造的核心设备，在工业领域，最难的不是芯片设计，而是芯片制造，用的就是光刻机。

有一位美国工程师表示，光刻机的一个零件调整多达数十年之久。

目前荷兰的ASML最先进的光刻机，集成了大量的来自德国美国日本等最先进的技术，比如光刻机的光源设备主要来自美国的Cymer公司，镜头则来自于德国蔡司。

用光刻机做出一个芯片大概需要3000工序，由于每一步都是“硅上雕花”，有一定的失败率，三千步下来，要让最终成品合格率高于95%，每一步的失败率必须小于0.001%。

目前全世界能够生产高端光刻机的只有三家，分别是荷兰 ASML，日本的尼康和佳能。

关键是在新一代的光刻机技术研发烧钱太大，尼康和尼佳已经都放弃了。

也就是说，到了最后，荷兰ASML一家独占了全球光刻机市场的85%，利润的107%。

其实在2012年，荷兰ASML研究最新光刻机没钱也想放弃的，结果等着光刻机续命的企业，比如intel、三星、台积电从家里拿来大几十亿美元支持 ASML，最终造出了能够制造7nm制程芯片的光刻机，每台还能售卖1亿美元。

一亿美元的确很贵，可是事关卡脖子，我们也不差1亿吧，关键是有1亿也是买不到，才是最大的问题。

这个协议简单的解释就是美国带着他的小伙伴们不把技术卖给其他国家，其中中国就是没被安排到了。

目前最先进的光刻机没有哪个国家能够凭借一国之力造出来，荷兰也不行。

纵观全球半导体行业最发达当属美国、日本，但这两个国家也没有单独研制出光刻机的实力，欧洲半导体行业权威专家直接表示，想要研制出光刻机就必须集结多个国家的优势，其中就包括日本提供特殊复合材料、德国提供蔡司镜头技术设备、瑞典的工业精密机床技术以及美国提供控制软件等，中国目前想要造出来世界领先的光刻机，就要在光刻机所有的技术领域击败日本，德国瑞典，美国等这个零配件供给国，因为美国的原因，这些零件目前不可能被进口，所以荷兰敢嚣张的说，就算拿到图纸，你也造不出光刻机。

什么样的羊毛衫不起球，穿着舒服，感觉平整？

你这是时候问应该是买春天的吧！我给你系统的从产地、价格区间、材质的介绍一下整个毛衣类目！看完你就不会在为买毛衣发愁了！

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我们先说说产地。

毛衣一个主要产地有广东、河北、以及浙江嘉兴。

1. 河北主要产中低端毛衣为主。
2. 广东基本也是中低端女装为主。
3. 嘉兴分两个市场一个是濮院市场一个红河市场，濮院中高档毛衣为主，红河就是低端的为主。

再来说说价格和成分。

100-200区间你不用多想了，不不在有羊毛成分，就算吊牌和描述写的是，那也是***的，根本检测不出来的！

200-400之间一般含6%-50%左右羊毛，大概这个样子的。

关于舒适度。

一般[_a***_]200以内都是包心纱，凑合穿！春夏可以买冰丝的或者粘胶的还有亚麻成分的，这三种都不错不会起球！舒适度好！

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到此，以上就是小编对于纺织面料技术难点的问题就介绍到这了，希望介绍关于纺织面料技术难点的2点解答对大家有用。